Импульсно-плазменный отжиг слоев кремния, имплантированных бором
author
Gavrilov, Aleksei
Katšurin, G.A.
statement of authorship
А.А. Гаврилов, Г.А. Качурин
source
Электрофизические свойства полупроводниковых и диэлектрических материалов
location of publication
Таллин
publisher
Таллинский политехнический институт
year of publication
1983
pages
с. 3-13 : ил
series
Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised = Труды Таллинского политехнического института ; 545
Полупроводниковые материалы ; 5
series variant title
TPI Toimetised ; 545
Труды ТПИ ; 545
url
https://www.ester.ee/record=b1291687*est
https://digikogu.taltech.ee/et/Item/9447de85-407e-426e-843d-2f0c98097f4e
subject term
pooljuhid
termiline töötlemine
räni
boor
TalTech subject term
Tallinna Tehnikaülikooli toimetised
ISSN
0136-3549
0136-3581
notes
Библиогр. : 12 назв
Summary: The plasma-impulse annealing of silicon layers implanted with boron
scientific publication
teaduspublikatsioon
classifier
3.2
TalTech department
füüsika kateeder
language
vene