Рост и морфология толстых слоев арсенида галлия, выращенных жидкофазной эпитаксией
statement of authorship
Б. Л. Мейлер, Л. Я. Золотаревский, А. А. Паат, И. А. Оренштейн
location of publication
Таллин
publisher
year of publication
pages
с. 24-26
subject term
notes
Библиогр.: 1 назв
TTÜ department
language
vene
Мейлер, Б., Золотаревский, Л. Я., Паат, А., Оренштейн, И. А. Рост и морфология толстых слоев арсенида галлия, выращенных жидкофазной эпитаксией // Полупроводники и гетеропереходы : сборник статей. Таллин : Валгус, 1987. с. 24-26. https://www.ester.ee/record=b1262177*est