Методы исследования исходных полупроводниковых материалов и эпитаксиальных структур

statement of authorship
А. Л. Мере, А. А. Паат, Э. И. Рузалеп, Ю. Ф. Удер
source
Применение эпитаксиальной технологии в производстве силовых полупроводниковых приборов : сборник материалов Всесоюзного научно-технического семинара. Часть 2
location of publication
Таллин
publisher
year of publication
pages
с. 173-180
conference name, date
Применение эпитаксиальной технологии в производстве силовых полупроводниковых приборов, 1978
conference location
Таллин
notes
Библиогр. 8 назв.
TalTech department
language
vene