Давление насыщенного пара алкилрезорцинов
author
statement of authorship
М.О. Бакалова, Т.Х. Орупыльд, Р.Л. Рейле
location of publication
Таллин
publisher
year of publication
pages
с. 117-121 : ил
series
series variant title
url
subject term
TalTech subject term
ISSN
0136-3549
0320-3379
notes
Библиогр. : 3 назв
Abstract: Vapour pressure of alkylresorcines
scientific publication
teaduspublikatsioon
classifier
TalTech department
language
vene
Бакалова, М.О., Орупыльд, Т.Х., Рейле, Р.Л. Давление насыщенного пара алкилрезорцинов // Процессы и аппараты химической технологии. 1. Таллин : Таллинский политехнический институт, 1987. с. 117-121 : ил. (Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised = Труды Таллинского политехнического института ; 642, Процессы и аппараты химической технологии ; 1). https://www.ester.ee/record=b2191192*est https://digikogu.taltech.ee/et/Item/c539a548-9c28-4bff-b78a-94c99ea75748