Импульсно-плазменный отжиг слоев кремния, имплантированных бором
autor
Gavrilov, Aleksei
Katšurin, G.A.
vastutusandmed
А.А. Гаврилов, Г.А. Качурин
allikas
Электрофизические свойства полупроводниковых и диэлектрических материалов
ilmumiskoht
Таллин
kirjastus/väljaandja
Таллинский политехнический институт
ilmumisaasta
1983
leheküljed
с. 3-13 : ил
seeria-sari
Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised = Труды Таллинского политехнического института ; 545
Полупроводниковые материалы ; 5
seeria variantpealkiri
TPI Toimetised ; 545
Труды ТПИ ; 545
leitav
https://www.ester.ee/record=b1291687*est
https://digikogu.taltech.ee/et/Item/9447de85-407e-426e-843d-2f0c98097f4e
märksõna
pooljuhid
termiline töötlemine
räni
boor
TTÜ märksõna
Tallinna Tehnikaülikooli toimetised
ISSN
0136-3549
0136-3581
märkused
Библиогр. : 12 назв
Summary: The plasma-impulse annealing of silicon layers implanted with boron
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
3.2
TTÜ struktuuriüksus
füüsika kateeder
keel
vene