Impact of vacuum and nitrogen annealing on HVE SnS photoabsorber films
autor
Revathi, Naidu
Loorits, Mihkel
Kärber, Erki
Volobujeva, Olga
Raudoja, Jaan
Maticiuc, Natalia
Bereznev, Sergei
Mellikov, Enn
vastutusandmed
Revathi Naidu, Mihkel Loorits, Erki Kärber, Olga Volobujeva, Jaan Raudoja, Natalia Maticiuc, Sergei Bereznev, Enn Mellikov
allikas
Materials science in semiconductor processing
kirjastus/väljaandja
Elsevier
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 71
ilmumisaasta
2017
leheküljed
p. 252-257 : ill
leitav
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.08.004
märksõna
õhukesed kiled
mikrostruktuur
elektrilised omadused
vaakumitehnika
võtmesõna
SnS thin films
annealing
N2 ambient pressure
microstructural
electrical properties
ISSN
1369-8001
märkused
Bibliogr.: 27 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
1.1
Scopus
https://www.scopus.com/sourceid/26675
https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85029812537&origin=inward&txGid=6d3bd160a0d8969a6a8364fefa35008b
WOS
https://jcr.clarivate.com/jcr-jp/journal-profile?journal=MAT%20SCI%20SEMICON%20PROC&year=2017
https://www.webofscience.com/wos/woscc/full-record/WOS:000412963700037
kategooria (üld)
Engineering
Tehnika
Physics and astronomy
Füüsika ja astronoomia
Materials science
Materjaliteadus
kategooria (alam)
Engineering. Mechanical engineering
Tehnika. Masinaehitus
Physics and astronomy. Condensed matter physics
Füüsika ja astronoomia. Kondenseeritud aine füüsika
Engineering. Mechanics of materials
Tehnika. Materjalide mehaanika
Materials science. General materials science
Materjaliteadus. Üldine materjaliteadus
kvartiil
Q2
TTÜ struktuuriüksus
materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
keel
inglise