Dependence of multifractal analysis parameters on the darkness of a processed image
autor
Martsepp, Merike
Laas, Tõnu
Laas, Katrin
Priimets, Jaanis
Tõkke, Siim
Mikli, Valdek
vastutusandmed
Merike Martsepp, Tõnu Laas, Katrin Laas, Jaanis Priimets, Siim Tõkke, Valdek Mikli
allikas
Chaos, Solitons & Fractals
kirjastus/väljaandja
Elsevier
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 156
ilmumisaasta
2022
leheküljed
art. 111811
leitav
https://doi.org/10.1016/j.chaos.2022.111811
märksõna
volfram
skaneeriv elektronmikroskoopia
optiline mikroskoopia
pilditöötlus
võtmesõna
multifractal analysis
tungsten
Plasma
SEM
optical microscope
image processing
image darkness
ISSN
0960-0779
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
1.1
Scopus
Journal metrics at Scopus
Article at Scopus
WOS
Journal metrics at WOS
Article at WOS
kategooria (üld)
Mathematics
en
Matemaatika
et
Physics and astronomy
en
Füüsika ja astronoomia
et
kategooria (alam)
Mathematics. Mathematical physics
en
Matemaatika. Matemaatiline füüsika
et
Mathematics. Applied mathematics
en
Matemaatika. Rakendusmatemaatika
et
Physics and astronomy. Statistical and nonlinear physics
en
Füüsika ja astronoomia. Statistiline ja mittelineaarne füüsika
et
Physics and astronomy. General physics and astronomy
en
Füüsika ja astronoomia. Üldfüüsika ja astronoomia
et
kvartiil
Q1
TTÜ struktuuriüksus
Eesti Mereakadeemia
materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
keel
eesti
Uurimisrühm
Päikeseenergeetika materjalide teaduslabor