Structural and electrical characterisation of high-k ZrO2 thin films deposited by chemical spray pyrolysis method
autor
Oluwabi, Abayomi Titilope
Acik, Ilona Oja
Katerski, Atanas
Mere, Arvo
Krunks, Malle
vastutusandmed
Abayomi T. Oluwabi, Ilona Oja Acik, Atanas Katerski, Arvo Mere, Malle Krunks
allikas
Thin Solid Films
kirjastus/väljaandja
Elsevier B.V.
ajakirja aastakäik number kuu
Vol. 662
ilmumisaasta
2018
leheküljed
p. 129 - 136
leitav
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.07.035
märksõna
pihustamine
õhukesed kiled
dielektrilised omadused
oksiidid
võtmesõna
chemical spray pyrolysis
dielectric properties
high-k oxides
thin films
zirconium oxide
ISSN
0040-6090
märkused
Bibliogr.: 36 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
1.1
Scopus
Journal metrics at Scopus
Article at Scopus
WOS
Journal metrics at WOS
Article at WOS
kategooria (üld)
Materials science
en
Materjaliteadus
et
Physics and astronomy
en
Füüsika ja astronoomia
et
kategooria (alam)
Materials science. Metals and alloys
en
Materjaliteadus. Metallid ja sulamid
et
Physics and astronomy. Surfaces and interfaces
en
Füüsika ja astronoomia. Pinnad ja liidesed
et
Materials science. Surfaces, coatings and films
en
Materjaliteadus. Pinnad, katted ja kiled
et
Materials science. Materials chemistry
en
Materjaliteadus. Materjalide keemia
et
Materials science. Electronic, optical and magnetic materials
en
Materjaliteadus. Elektroonilised, optilised ja magnetilised materjalid
et
kvartiil
Q2
TTÜ struktuuriüksus
materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
keel
inglise
Uurimisrühm
Õhukesekileliste energiamaterjalide teaduslabor
,
Keemiliste kiletehnoloogiate teaduslabor (kuni 2022)