Study of ion implanted Fe depth distribution in Si after pulsed ion beam treatment
autor
Angelov, Christo
Georgiev, S.
Amov, Blagoj
Goranova, E.
Mikli, Valdek
Dezsi, I.
Kotai, E.
vastutusandmed
Ch.Angelov, S.Georgiev, B.Amov, E.Goranova, V.Mikli, I.Dezsi, E.Kotai
allikas
Journal of optoelectronics and advanced materials
ajakirja aastakäik number kuu
9
ilmumisaasta
2007
leheküljed
2, p. 307-310
leitav
https://www.researchgate.net/publication/289186791_Study_of_the_ion_implanted_Fe_depth_distribution_in_Si_after_pulsed_ion_beam_treatment
märksõna
ioonkiired
süntees
raud
räni
ISSN
1454-4164
keel
inglise