Otsing - TalTech teadusportaal

Si-SiO2-Si3N4 interface (võtmesõna)

—

—

—

—

Lisa tingimus Liitotsing filter

Tühista

teaviku laadid

raamat ..

artikkel ajakirjas ..

artikkel ajalehes ..

artikkel kogumikus ..

dissertatsioon ..

Open Access ..

Teaduspublikatsioon ..

aasta

Toon andmeid..

Toon andmeid..

TTÜ struktuuriüksus

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Tühista

ekspordi kõik päringu tulemused (1)
Salvesta TXT fail

Salvesta PDF fail

prindi
Märgitud kirjetega toimetamiseks ava valitud kirjed

kuva

reasta
1

artikkel ajakirjas

Stress relaxation mechanism by strain in the Si-SiO2 system and its influence on the interface propertiesKropman, Daniel; Mellikov, Enn; Kärner, Tiit; Laas, Tõnu; Medvid, Arthur; Onufrijevs, Pavels; Dauksta, EdvinsSolid state phenomena2011 / p. 259-262

artikkel ajakirjas

Kirjeid leitud 1, kuvan 1 - 1