Процессы и аппараты химической технологии и технология неорганических веществ

toimetaja
vastutusandmed
Таллинский политехнический институт ; редактор Э. Сийрде
köide
3
ilmumiskoht
Таллин
ilmumisaasta
leheküljed
127 с. : илл
vormimärksõna
märkused
Авторы: Л.М. Пикков, Э.К. Сийрде, Э.К. Рейтер, Ю.И. Каллас, Э.О. Тали, Х.О. Вильбок, М.Э. Пылдме, Ю.Х. Пылдме, Л.И. Пец, М.А. Вейдерма, А.И. Ребане, П.Ф. Раудсепп
Библиогр. в конце статей
Lisa: artiklite kokkuvõtted 8 lk.
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
3.2
keel
vene
Сийрде, Э. (ред.). Процессы и аппараты химической технологии и технология неорганических веществ. 3. Таллин : Таллинский политехнический институт, 1972. 127 с. : илл. (Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised = Труды Таллинского политехнического института. Серия A ; 319, Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised. Seeria A ; 319, Сборник статей по химии и химической технологии ; 29). https://www.ester.ee/record=b1531312*est https://digikogu.taltech.ee/et/Item/e448e56a-a020-4c7c-8723-e0214721d71b/