О влиянии толщины рабочего слоя на фотопроводимость фоторезисторов

author
statement of authorship
В.Э. Валдна
location of publication
Таллин
year of publication
pages
с. 121-124 : илл
subject term
notes
Summary: Layer thickness influence on the photoconductivity of photoconductors
scientific publication
teaduspublikatsioon
classifier
3.2
language
vene
Валдна, В. О влиянии толщины рабочего слоя на фотопроводимость фоторезисторов // Полупроводниковые материалы. 2. Таллин : Таллинский политехнический институт, 1972. с. 121-124 : илл. (Tallinna Polütehniline Instituut = Труды Таллинского политехнического института ; 323, Сборник статей по химии и химической технологии ; 30, Полупроводниковые материалы ; 2). https://www.ester.ee/record=b1476073*est https://digikogu.taltech.ee/et/Item/75bd57ba-4543-4614-ab7c-3230cb13e005