О возможности улучшения прямой ВАХ высоковольтного диода
statement of authorship
Г. Т. Вахер, О. О. Крункс, Э. И. Куузик, М. Т. Тарма, М. Я. Тарма
location of publication
Таллин
publisher
year of publication
pages
с. 13-20 : ил
conference name, date
Применение эпитаксиальной технологии в производстве силовых полупроводниковых приборов, 1978
conference location
Таллин
notes
Библиогр.: 5 назв
TalTech department
language
vene
Вахер, Г., Крункс, О., Куузик, Э., Тарма, М.Т., Тарма, М.Я. О возможности улучшения прямой ВАХ высоковольтного диода // Применение эпитаксиальной технологии в производстве силовых полупроводниковых приборов : сборник материалов Всесоюзного научно-технического семинара. Часть 1. Таллин : ЭстНИИНТИ, 1978. с. 13-20 : ил.