APL study of CIGS thin films implanated with He and D ions
autor
Yakushev, M.
Pilkington, R. D.
Hill, A. E.
Tomlinson, R. D.
Martin, R. W.
Krustok, Jüri
Schock, H. W.
vastutusandmed
M. Yakushev, R.D. Pilkington, A.E. Hill, R.D. Tomlinson, R.W. Martin, J. Krustok, H.W. Schock
allikas
E-MRS Spring Meeting : Strasbourg, 1999 : abstracts
ilmumiskoht
[S.l.]
ilmumisaasta
1999
leheküljed
p. O
leitav
http://staff.ttu.ee/~juri.krustok/PDF-s/TSF-488.pdf
märksõna
õhukesed kiled
vaseühendid
fotoluminestsents
ioonimplantatsioon
keel
inglise