TalTech publikatsioonid
pealdis Revathi, N., Loorits, M., Kärber, E., Volobujeva, O., Raudoja, J., Maticiuc, N., Bereznev, S., Mellikov, E.
TTÜ struktuuriüksus materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
maakood nl
keel inglise
autor Revathi, Naidu
Loorits, Mihkel
Kärber, Erki
Volobujeva, Olga
Raudoja, Jaan
Maticiuc, Natalia
Bereznev, Sergei
Mellikov, Enn
pealkiri Impact of vacuum and nitrogen annealing on HVE SnS photoabsorber films
vastutusandmed Revathi Naidu, Mihkel Loorits, Erki Kärber, Olga Volobujeva, Jaan Raudoja, Natalia Maticiuc, Sergei Bereznev, Enn Mellikov
allikas Materials science in semiconductor processing
ajakirja aastakäik number kuu vol. 71
ilmumisaasta 2017
leheküljed p. 252-257 : ill
märksõna õhukesed kiled
mikrostruktuur
elektrilised omadused
vaakumitehnika
võtmesõna SnS thin films
annealing
N2 ambient pressure
microstructural
electrical properties
ISSN 1369-8001
märkused Bibliogr.: 27 ref
url https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.08.004