Oluwabi, A. T., Gaspar, D., Katerski, A., Mere, A., Krunks, M., Pereira, L., Oja Acik, I.

prindi

Influence of post-UV/ozone treatment of ultrasonic-sprayed zirconium oxide dielectric films for a low-temperature oxide thin film transistor

autor

Oluwabi, Abayomi Titilope

Gaspar, Diana

Katerski, Atanas

Mere, Arvo

Krunks, Malle

Pereira, Luis

Oja Acik, Ilona

vastutusandmed

Abayomi Titilope Oluwabi, Diana Gaspar, Atanas Katerski, Arvo Mere, Malle Krunks, Luis Pereira and Ilona Oja Acik

allikas

Materials

kirjastus/väljaandja

MDPI

ajakirja aastakäik number kuu

vol. 13, 1

ilmumisaasta

2020

leheküljed

art. 6, 14 p. : ill

leitav

https://doi.org/10.3390/ma13010006

märksõna

õhukesed kiled

pihustamine

madalad temperatuurid

võtmesõna

spray pyrolysis

low-temperature

zirconium oxide

Indium-Gallium-Zinc-Oxide

UV-ozone

high-κ dielectrics

thin film transistor

ISSN

1996-1944

märkused

Bibliogr.: 47 ref

Open Access

teaduspublikatsioon

klassifikaator

1.1

Scopus

Journal metrics at Scopus

Article at Scopus

WOS

Journal metrics at WOS

Article at WOS

kategooria (üld)

Füüsika ja astronoomia

Materjaliteadus

kategooria (alam)

Füüsika ja astronoomia. Kondenseeritud aine füüsika

Materjaliteadus. Üldine materjaliteadus

kvartiil

TTÜ struktuuriüksus

materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut

keel

inglise

Uurimisrühm

Õhukesekileliste energiamaterjalide teaduslabor, Keemiliste kiletehnoloogiate teaduslabor (kuni 28.02.2023)

Oluwabi, A. T., Gaspar, D., Katerski, A., Mere, A., Krunks, M., Pereira, L., Oja Acik, I. Influence of post-UV/ozone treatment of ultrasonic-sprayed zirconium oxide dielectric films for a low-temperature oxide thin film transistor // Materials (2020) vol. 13, 1, art. 6, 14 p. : ill. https://doi.org/10.3390/ma13010006