К расчету некоторых параметров процесса лавинного размножения носителей в резких кремниевых p-n-переходах
autor
vastutusandmed
Г. Т. Вахер, Э. Э. Велмре
ilmumiskoht
Таллин
kirjastus/väljaandja
ilmumisaasta
leheküljed
с. 89-96
konverentsi nimetus, aeg
Применение эпитаксиальной технологии в производстве силовых полупроводниковых приборов
konverentsi toimumispaik
Таллин
märkused
Библиогр.: 11 назв
TTÜ struktuuriüksus
keel
vene
Вахер, Г., Велмре, Э. К расчету некоторых параметров процесса лавинного размножения носителей в резких кремниевых p-n-переходах // Применение эпитаксиальной технологии в производстве силовых полупроводниковых приборов : сборник материалов Всесоюзного научно-технического семинара. Часть 1. Таллин : ЭстНИИНТИ, 1978. с. 89-96.