Импульсно-плазменный отжиг слоев кремния, имплантированных бором
ilmumiskoht
Таллин
kirjastus/väljaandja
ilmumisaasta
leheküljed
с. 3-13
seeria-sari
seeria variantpealkiri
TPI Toimetised ; 545
Труды ТПИ ; 545
märkused
Библиогр. : 12 назв
keel
vene
Гаврилов, А.А., Качурин, Г.А. Импульсно-плазменный отжиг слоев кремния, имплантированных бором // Электрофизические свойства полупроводниковых и диэлектрических материалов. Таллин : Таллинский политехнический институт, 1983. с. 3-13. (Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised = Труды Таллинского политехнического института ; 545, Полупроводниковые материалы ; 5).