Interaction between point defects in the Si-SiO2 system during the process of its formation
autor
Kropman, Daniel
Kärner, T.
Samoson, Ago
Heidmaa, I.
Ugaste, Ülo
Mellikov, Enn
vastutusandmed
D.Kropman, T.Kärner, A.Samosson, I.Heidmaa, Ü.Ugaste, E.Mellikov
allikas
Defect and Diffusion Forum
ilmumiskoht
[S. l.]
kirjastus/väljaandja
Elsevier
ilmumisaasta
2001
leheküljed
p. 1737-1744
leitav
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0168583X0100862X
märksõna
räni
ränioksiid
punktdefektid
kineetika
elektroni paramagnetresonantsspektroskoopia
tuumamagnetresonantsspektroskoopia
keel
inglise