Impact of vacuum and nitrogen annealing on HVE SnS photoabsorber films

vastutusandmed
Revathi Naidu, Mihkel Loorits, Erki Kärber, Olga Volobujeva, Jaan Raudoja, Natalia Maticiuc, Sergei Bereznev, Enn Mellikov
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 71
ilmumisaasta
leheküljed
p. 252-257 : ill
võtmesõna
N2 ambient pressure
microstructural
ISSN
1369-8001
märkused
Bibliogr.: 27 ref
keel
inglise
Revathi, N., Loorits, M., Kärber, E., Volobujeva, O., Raudoja, J., Maticiuc, N., Bereznev, S., Mellikov, E. Impact of vacuum and nitrogen annealing on HVE SnS photoabsorber films // Materials science in semiconductor processing (2017) vol. 71, p. 252-257 : ill. https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.08.004