Otsing - TalTech teadusportaal

Solution processed high-K oxides for application as gate dielectric layer in thin film transistor (pealkiri)

—

—

—

—

Lisa tingimus Liitotsing filter

Tühista

teaviku laadid

raamat ..

artikkel ajakirjas ..

artikkel ajalehes ..

artikkel kogumikus ..

dissertatsioon ..

Open Access ..

Teaduspublikatsioon ..

aasta

Toon andmeid..

Toon andmeid..

TTÜ struktuuriüksus

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Tühista

ekspordi kõik päringu tulemused (1)
Salvesta TXT fail

prindi
Märgitud kirjetega toimetamiseks ava valitud kirjed

kuva

reasta
1

artikkel kogumikus

Solution processed high-K oxides for application as gate dielectric layer in thin film transistorOluwabi, Abayomi Titilope; Katerski, Atanas; Mere, Arvo; Krunks, Malle; Oja Acik, IlonaGSFMT Scientific Conference 2020 : Tallinn, February 4-5, 2020 : abstracts2020 / p. 67 : ill http://fmtdk.ut.ee/wp-content/uploads/2020/01/GSFMT2020.p

artikkel kogumikus

Kirjeid leitud 1, kuvan 1 - 1