Toggle navigation
Publikatsioonid
Profiilid
Uurimisrühmad
Registrid
Abi ja info
Switch to English
Intranet
Publikatsioonid
Profiilid
Uurimisrühmad
Registrid
Abi ja info
English
Intranet
Andmebaasid
Publikatsioonid
Otsing
Valitud kirjed
0
Computers & chemical engineering (allikas)
Kõikidelt väljadelt
Allika otsing
Autori otsing
Märksõna otsing
Pealkirja otsing
algab
sisaldab
täpne vaste
Kõikidelt väljadelt
Allika otsing
Autori otsing
Märksõna otsing
Pealkirja otsing
algab
sisaldab
täpne vaste
—
Kõikidelt väljadelt
Allika otsing
Autori otsing
Märksõna otsing
Pealkirja otsing
algab
sisaldab
täpne vaste
—
Kõikidelt väljadelt
Allika otsing
Autori otsing
Märksõna otsing
Pealkirja otsing
algab
sisaldab
täpne vaste
—
Kõikidelt väljadelt
Allika otsing
Autori otsing
Märksõna otsing
Pealkirja otsing
algab
sisaldab
täpne vaste
—
Lisa tingimus
Liitotsing
filter
Tühista
×
teaviku laadid
raamat
..
artikkel ajakirjas
..
artikkel ajalehes
..
artikkel kogumikus
..
dissertatsioon
..
Open Access
..
Teaduspublikatsioon
..
aasta
ilmumisaasta
Toon andmeid..
autor
Toon andmeid..
TTÜ struktuuriüksus
Toon andmeid..
märksõna
Toon andmeid..
seeria-sari
Toon andmeid..
tema kohta
Toon andmeid..
võtmesõna
Toon andmeid..
Tühista
Kirjeid leitud
2
Vaata veel..
(1/65)
Ekspordi
ekspordi kõik päringu tulemused
(2)
Salvesta TXT fail
Salvesta PDF fail
prindi
Märgitud kirjetega toimetamiseks ava
valitud kirjed
kuva
Bibliokirje
Lühikirje
reasta
autor kasvavalt
autor kahanevalt
ilmumisaasta kasvavalt
ilmumisaasta kahanevalt
pealkiri kasvavalt
pealkiri kahanevalt
1
artikkel ajakirjas
QSPR study of the first and second critical micelle concentrations of cationic surfactants
Katritzky, Alan R.
;
Pacureanu, Liliana M.
;
Slavov, Svetoslav H.
;
Dobchev, Dimitar A.
;
Shah, Dinesh O.
;
Karelson, Mati
Computers & chemical engineering
2009
/
1, p. 321-332 : ill
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0098135408001956
artikkel ajakirjas
2
artikkel ajakirjas
Rapid QSPR model development technique for prediction of vapor pressure of organic compounds
Katritzky, Alan R.
;
Slavov, Svetoslav
;
Dobchev, Dimitar
;
Karelson, Mati
Computers & chemical engineering
2007
/
9, p. 1123-1130
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0098135406002511
artikkel ajakirjas
Kirjeid leitud 2, kuvan
1 - 2
võtmesõna
65
1.
computers in education
2.
aerosol assisted chemical vapour deposition (AACVD)
3.
chemical activation
4.
chemical and mineralogical composition
5.
chemical bath deposited CdS
6.
chemical bath deposition
7.
chemical bonding
8.
Chemical characterization
9.
chemical composition
10.
chemical contamination
11.
chemical corrosion
12.
chemical decontamination
13.
chemical detection
14.
chemical displacers
15.
chemical elements
16.
chemical emissions
17.
chemical etching
18.
chemical hazards
19.
chemical industry
20.
chemical leaching
21.
chemical mixtures
22.
chemical modification
23.
chemical oxidation
24.
chemical physics
25.
chemical pollution
26.
chemical post-deposition treatment
27.
chemical precipitation
28.
chemical probes
29.
chemical processes
30.
chemical profile
31.
chemical properties
32.
chemical reactions
33.
chemical regeneration
34.
chemical sensing
35.
chemical sensors
36.
chemical shift constraints
37.
chemical shift imaging
38.
Chemical spray pyrolysis
39.
chemical spray pyrolysis (CSP)
40.
chemical synthesis
41.
chemical technologies
42.
chemical transformation
43.
chemical treatment
44.
Chemical Vapor Deposition
45.
chemical vapor transport (CVT)
46.
chemical warfare agent
47.
chemical warfare agent degradation products
48.
chemical warfare agents
49.
chemical-bath deposition
50.
combined chemical–biological treatment
51.
environmental, chemical, transportation hazards
52.
in situ chemical oxidation
53.
oil and chemical spills
54.
peat physico-chemical properties
55.
physical and chemical processes
56.
physico-chemical methods
57.
physico-chemical properties
58.
physio-chemical properties
59.
quantitative chemical analysis
60.
quantum chemical calculations
61.
remedial chemical
62.
Storable chemical energy
63.
surface chemical composition
64.
wet chemical precipitation
65.
15N chemical shift tensors
×
vaste
algab
lõpeb
sisaldab
reasta
Relevantsuse alusel
kasvavalt
kahanevalt
ilmumisaasta
autor
TTÜ struktuuriüksus
märksõna
seeria-sari
tema kohta
võtmesõna
Otsing
Valikud
0
ilmumisaasta
AND
OR
NOT
autor
AND
OR
NOT
TTÜ struktuuriüksus
AND
OR
NOT
märksõna
AND
OR
NOT
seeria-sari
AND
OR
NOT
tema kohta
AND
OR
NOT
võtmesõna
AND
OR
NOT