Otsing - TalTech teadusportaal

Comparative results of low temperature annealing of lightly doped n-layers of silicon carbide irradiated by protons and electrons (pealkiri)

—

—

—

—

Lisa tingimus Liitotsing filter

Tühista

teaviku laadid

raamat ..

artikkel ajakirjas ..

artikkel ajalehes ..

artikkel kogumikus ..

dissertatsioon ..

Open Access ..

Teaduspublikatsioon ..

aasta

Toon andmeid..

Toon andmeid..

TTÜ struktuuriüksus

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Tühista

ekspordi kõik päringu tulemused (1)
Salvesta TXT fail

prindi
Märgitud kirjetega toimetamiseks ava valitud kirjed

kuva

reasta
1

artikkel kogumikus EST / artikkel kogumikus ENG

Comparative results of low temperature annealing of lightly doped n-layers of silicon carbide irradiated by protons and electronsKozlovski, Vitali V.; Korolkov, Oleg; Lebedev, Alexander A.; Toompuu, Jana; Sleptsuk, NataljaSilicon Carbide and Related Materials 2019 : 18th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019 (ICSCRM 2019), Kyoto, Japan, September 29 - October 4, 20192020 / p. 231-236 https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.1004.231 Conference Proceedings at Scopus Article at Scopus

artikkel kogumikus EST / artikkel kogumikus ENG

Kirjeid leitud 1, kuvan 1 - 1