prindi

Chemical solution deposition of thin TiO2-anatase films for dielectric applications

autor
Es-Souni, M.
Oja, Ilona
Krunks, Malle
vastutusandmed
M.Es-Souni, I.Oja, M.Krunks
allikas
Journal of materials science : materials in electronics
ajakirja aastakäik number kuu
15
ilmumisaasta
2004
leheküljed
p. 341-344 : ill
märksõna
titaandioksiid
õhukesed kiled
keemilised sadestusmeetodid
ISSN
0957-4522
märkused
Bibliogr.: 11 ref
keel
inglise
Es-Souni, M., Oja, I., Krunks, M.* Chemical solution deposition of thin TiO2-anatase films for dielectric applications // Journal of materials science : materials in electronics (2004) 15, p. 341-344 : ill.