prindi

Impact of vacuum and nitrogen annealing on HVE SnS photoabsorber films

autor
Revathi, Naidu
Loorits, Mihkel
Kärber, Erki
Volobujeva, Olga
Raudoja, Jaan
Maticiuc, Natalia
Bereznev, Sergei
Mellikov, Enn
vastutusandmed
Revathi Naidu, Mihkel Loorits, Erki Kärber, Olga Volobujeva, Jaan Raudoja, Natalia Maticiuc, Sergei Bereznev, Enn Mellikov
allikas
Materials science in semiconductor processing
kirjastus/väljaandja
Elsevier
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 71
ilmumisaasta
2017
leheküljed
p. 252-257 : ill
leitav
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.08.004
märksõna
õhukesed kiled
mikrostruktuur
elektrilised omadused
vaakumitehnika
võtmesõna
SnS thin films
annealing
N2 ambient pressure
microstructural
electrical properties
ISSN
1369-8001
märkused
Bibliogr.: 27 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
1.1
Scopus
Journal metrics at Scopus
Article at Scopus
WOS
Journal metrics at WOS
Article at WOS
kategooria (üld)
Tehnika
Füüsika ja astronoomia
Materjaliteadus
kategooria (alam)
Tehnika. Masinaehitus
Füüsika ja astronoomia. Kondenseeritud aine füüsika
Tehnika. Materjalide mehaanika
Materjaliteadus. Üldine materjaliteadus
kvartiil
Q2
TTÜ struktuuriüksus
materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
keel
inglise
Revathi, N., Loorits, M., Kärber, E., Volobujeva, O., Raudoja, J., Maticiuc, N., Bereznev, S., Mellikov, E. Impact of vacuum and nitrogen annealing on HVE SnS photoabsorber films // Materials science in semiconductor processing (2017) vol. 71, p. 252-257 : ill. https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.08.004