Atomic layer deposition of titanium oxide films on As-synthesized magnetic Ni particles: magnetic and safety properties
autor
vastutusandmed
Peep Uudeküll, Jekaterina Kozlova, Hugo Mändar, Joosep Link, Mariliis Sihtmäe,Sandra Käosaar, Irina Blinova, Kaja Kasemets, Anne Kahru, Raivo Stern, Tanel Tätte, Kaupo Kukli, Aile Tamm
kirjastus/väljaandja
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 429
ilmumisaasta
leheküljed
p. 299-304 : ill
märksõna
võtmesõna
atomic layer deposition (ALD)
magnetical characterization
nickel mesoparticles
titanium dioxide coatings
ISSN
0304-8853
märkused
Bibliogr.: 44 ref
Open Access
Open Access
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
kategooria (üld)
kategooria (alam)
kvartiil
TTÜ struktuuriüksus
keel
inglise
Uudeküll, P., Kozlova, J., Mändar, H., Link, J., Sihtmäe, M., Käosaar, S., Blinova, I., Kasemets, K., Kahru, A., Stern, R. et al. Atomic layer deposition of titanium oxide films on As-synthesized magnetic Ni particles: magnetic and safety properties // Journal of magnetism and magnetic materials (2017) vol. 429, p. 299-304 : ill.