Interaction between point defects, extended defects and impurities in the Si-SiO2 system during the process of its formation
autor
Kropman, Daniel
Kärner, T.
Abru, Uno
Ugaste, Ülo
Mellikov, Enn
vastutusandmed
D.Kropman, T.Kärner, U.Abru, Ü.Ugaste, E.Mellikov
allikas
Thin solid films
ajakirja aastakäik number kuu
459
ilmumisaasta
2004
leheküljed
1/2, p. 53-57 : ill
leitav
https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0921510704003459
märksõna
metallograafia
transmissioon
elektronmikroskoopia
integraallülitused
defektid
töökindlus
ISSN
0040-6090
märkused
Bibliogr.: 13 ref