Influence of post-UV/ozone treatment of ultrasonic-sprayed zirconium oxide dielectric films for a low-temperature oxide thin film transistor

vastutusandmed
Abayomi Titilope Oluwabi, Diana Gaspar, Atanas Katerski, Arvo Mere, Malle Krunks, Luis Pereira and Ilona Oja Acik
allikas
kirjastus/väljaandja
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 13, 1
ilmumisaasta
leheküljed
art. 6, 14 p. : ill
võtmesõna
Indium-Gallium-Zinc-Oxide
UV-ozone
high-κ dielectrics
thin film transistor
ISSN
1996-1944
märkused
Bibliogr.: 47 ref
Open Access
Open Access
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
1.1
kvartiil
Q1
keel
inglise
Oluwabi, A. T., Gaspar, D., Katerski, A., Mere, A., Krunks, M., Pereira, L., Oja Acik, I. Influence of post-UV/ozone treatment of ultrasonic-sprayed zirconium oxide dielectric films for a low-temperature oxide thin film transistor // Materials (2020) vol. 13, 1, art. 6, 14 p. : ill. https://doi.org/10.3390/ma13010006