Otsing - TalTech teadusportaal

Study of ion implanted Fe depth distribution in Si after pulsed ion beam treatment (pealkiri)

—

—

Lisa tingimus Lihtotsing filter

Tühista

teaviku laadid

raamat ..

artikkel ajakirjas ..

artikkel ajalehes ..

artikkel kogumikus ..

dissertatsioon ..

Open Access ..

Teaduspublikatsioon ..

aasta

Toon andmeid..

Toon andmeid..

TTÜ struktuuriüksus

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Toon andmeid..

Tühista

ekspordi kõik päringu tulemused (1)
Salvesta TXT fail

prindi
Märgitud kirjetega toimetamiseks ava valitud kirjed

kuva

reasta
1

artikkel ajakirjas

Study of ion implanted Fe depth distribution in Si after pulsed ion beam treatmentAngelov, Christo; Georgiev, S.; Amov, Blagoj; Goranova, E.; Mikli, Valdek; Dezsi, I.; Kotai, E.Journal of optoelectronics and advanced materials2007 / 2, p. 307-310 https://www.researchgate.net/publication/289186791_Study_of_the_ion_implanted_Fe_depth_distribution_in_Si_after_pulsed_ion_beam_treatment

artikkel ajakirjas

Kirjeid leitud 1, kuvan 1 - 1