Изменение параметров интегральных схем при анализе в растровом электронном микроскопе
autor
vastutusandmed
Б. Мейлер
ilmumiskoht
Таллин
kirjastus/väljaandja
ilmumisaasta
leheküljed
с. 85-92
seeria-sari
seeria variantpealkiri
TPI Toimetised ; 620
Труды ТПИ ; 620
märkused
Библиогр. : 8 назв
Abstract: The degradation of integrated circuits parameters during the analysis in the scanning electron micriscope
TTÜ struktuuriüksus
keel
vene
Мейлер, Б.Л. Изменение параметров интегральных схем при анализе в растровом электронном микроскопе // Электрофизические свойства полупроводниковых и диэлектрических материалов. Таллин : Таллинский политехнический институт, 1986. с. 85-92. (Tallinna Polütehnilise Instituudi toimetised = Труды Таллинского политехнического института ; 620, Полупроводниковые материалы ; 7). https://www.ester.ee/record=b1296001*est