Understanding and control of stress at Si-SiO2 interface
autor
Kropman, Daniel
Seeman, Viktor
Medvids, Arturs
Onufrijevs, Pavels
Vitusevich, Svetlana
Mikli, Valdek
vastutusandmed
Daniel Kropman, Viktor Seeman, Arturs Medvids, Pavels Onufrijevs, Svetlana Vitusevich, Valdek Mikli
allikas
Key engineering materials
kirjastus/väljaandja
Trans Tech Publications
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 850
ilmumisaasta
2020
leheküljed
p. 291−296
konverentsi nimetus, aeg
60th International Scientific Conference of Riga Technical University Section of Materials Science and Applied Chemistry, MSAC 2019, 24 October 2019
konverentsi toimumispaik
Riga, Latvia
leitav
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.850.291
märksõna
skaneeriv elektronmikroskoopia
röntgenspektroskoopia
metall-oksiid pooljuhid
võtmesõna
EPR
SEM
Si-SiO2 interface
stress relaxation
ISSN
1662-9795
1013-9826
märkused
Bibliogr.: 6 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
3.1
Scopus
Journal metrics at Scopus
Article at Scopus
kategooria (üld)
Engineering
en
Tehnika
et
Materials science
en
Materjaliteadus
et
kategooria (alam)
Engineering. Mechanical engineering
en
Tehnika. Masinaehitus
et
Engineering. Mechanics of materials
en
Tehnika. Materjalide mehaanika
et
Materials science. General materials science
en
Materjaliteadus. Üldine materjaliteadus
et
kvartiil
Q4
TTÜ struktuuriüksus
materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
keel
inglise
Uurimisrühm
Päikeseenergeetika materjalide teaduslabor