Understanding and control of stress at Si-SiO2 interface
autor
Kropman, Daniel
Seeman, Viktor
Medvids, Arturs
Onufrijevs, Pavels
Vitusevich, Svetlana
Mikli, Valdek
vastutusandmed
Daniel Kropman, Viktor Seeman, Arturs Medvids, Pavels Onufrijevs, Svetlana Vitusevich, Valdek Mikli
allikas
Key engineering materials
kirjastus/väljaandja
Trans Tech Publications
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 850
ilmumisaasta
2020
leheküljed
p. 291−296
konverentsi nimetus, aeg
60th International Scientific Conference of Riga Technical University Section of Materials Science and Applied Chemistry, MSAC 2019, 24 October 2019
konverentsi toimumispaik
Riga, Latvia
leitav
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.850.291
märksõna
skaneeriv elektronmikroskoopia
röntgenspektroskoopia
metall-oksiid pooljuhid
võtmesõna
EPR
SEM
Si-SiO2 interface
stress relaxation
ISSN
1662-9795
1013-9826
märkused
Bibliogr.: 6 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
3.1
Scopus
https://www.scopus.com/sourceid/12378
https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85088298651&origin=inward&txGid=57d66fc6d526d749bfec9d1fdbf4390a
kategooria (üld)
Engineering
Tehnika
Materials science
Materjaliteadus
kategooria (alam)
Engineering. Mechanical engineering
Tehnika. Masinaehitus
Engineering. Mechanics of materials
Tehnika. Materjalide mehaanika
Materials science. General materials science
Materjaliteadus. Üldine materjaliteadus
kvartiil
Q4
TTÜ struktuuriüksus
materjali- ja keskkonnatehnoloogia instituut
keel
inglise
Uurimisrühm
Päikeseenergeetika materjalide teaduslabor