Understanding and control of stress at Si-SiO2 interface

vastutusandmed
Daniel Kropman, Viktor Seeman, Arturs Medvids, Pavels Onufrijevs, Svetlana Vitusevich, Valdek Mikli
kirjastus/väljaandja
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 850
ilmumisaasta
leheküljed
p. 291−296
konverentsi nimetus, aeg
60th International Scientific Conference of Riga Technical University Section of Materials Science and Applied Chemistry, MSAC 2019, 24 October 2019
konverentsi toimumispaik
Riga, Latvia
ISSN
1662-9795
1013-9826
märkused
Bibliogr.: 6 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
keel
inglise
Kropman, D., Seeman, V., Medvids, A., Onufrijevs, P., Vitusevich, S., Mikli, V. Understanding and control of stress at Si-SiO2 interface // Key engineering materials (2020) vol. 850, p. 291−296. https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.850.291