Understanding and control of stress at Si-SiO2 interface

vastutusandmed
Daniel Kropman, Viktor Seeman, Arturs Medvids, Pavels Onufrijevs, Svetlana Vitusevich, Valdek Mikli
kirjastus/väljaandja
ajakirja aastakäik number kuu
vol. 850
ilmumisaasta
leheküljed
p. 291−296
konverentsi nimetus, aeg
60th International Scientific Conference of Riga Technical University Section of Materials Science and Applied Chemistry, MSAC 2019, 24 October 2019
konverentsi toimumispaik
Riga, Latvia
märksõna
ISSN
1662-9795
1013-9826
märkused
Bibliogr.: 6 ref
teaduspublikatsioon
teaduspublikatsioon
klassifikaator
3.1
kategooria (üld)
kvartiil
Q4
keel
inglise
Kropman, D., Seeman, V., Medvids, A., Onufrijevs, P., Vitusevich, S., Mikli, V. Understanding and control of stress at Si-SiO2 interface // Key engineering materials (2020) vol. 850, p. 291−296. https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.850.291